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Resistência dieléctrica do ar

On Novembro 19, 2021 by admin
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Tipler, Paul A. College Physics. Worth, 1987: 467. “Este fenômeno, que é chamado de ruptura dielétrica, ocorre no ar com uma intensidade de campo elétrico de cerca de Emax = 3 × 106 V/m.” 3 × 106 V/m
Rigden, John S. Macmillan Encyclopedia of Physics. Simon & Schuster, 1996: 353. Air; Constante Dieléctrica, 1; Força Es (kV/mm), 3 3 × 106 V/m
Yager, W. A. Digest on Literature on Dielectrics Volume X. Murray Hill, NJ: Bell Telephone Laboratories, 1947: 44-46. “Potenciais mínimos de centelha em hélio são 146, 161 e 187 volts” 146 V
161 V
187 V
Hodgman, Charles D. & Norbert A. Lange. Manual de Química e Física 10ª Edição. Cleveland, OH: Chemical Rubber Publishing Co, 1925: 547. “Comprimento da faísca (cm), .10; Eléctrodos de ponto, 3720; Eléctrodos de bola, 1 cm de diâmetro: Potencial constante, 4560; Potencial alternado, 4400” 3,7-4,5 × 106 V/m
Riley, Lewis A. Dielectrics. 1999-2000. “A resistência dieléctrica do ar é de cerca de 3 × 106 V/m” 3 × 106 V/m

Dielectric breakdown occurs when a charge buildup exceeds the electrical limit or dielectric strength of a material. Os elétrons com carga negativa são puxados numa direção e os íons com carga positiva na outra. Quando os elétrons são removidos de um núcleo, ele se torna positivamente carregado. Quando as moléculas de ar ficam ionizadas num campo eléctrico muito elevado, o ar passa de isolador a condutor. As faíscas ocorrem por causa da recombinação de elétrons e íons. O raio ocorre quando há um acúmulo de carga nas nuvens e no solo. Ele produz o campo elétrico que excede a força dielétrica do ar. O ar ionizado é um bom condutor e fornece um caminho onde por cargas pode fluir das nuvens para o solo.

A força dielétrica do ar é de aproximadamente 3 kV/mm. Seu valor exato varia com a forma e tamanho dos eletrodos e aumenta com a pressão do ar.

Alice Hong — 2000

Enlaces externos para esta página:

  • Patente US 7,569,112, Aparelho de sonda de varredura com capacidade de limpeza da ponta da sonda de medição in-situ, Lin Zhou, et al. 2009

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